PP濾芯微濾膜核徑跡蝕刻法
PP濾芯微濾膜核徑跡蝕刻法是采用物理和化學(xué)雙重作用制備微濾膜的一種新方法。通過用高能荷電粒子(強(qiáng)度一般為1MeV左右)輻照聚合物材料(一般為聚酯、聚碳酸酯薄膜材料)，使粒子穿過之處聚合物鏈節(jié)斷裂，形成殘缺徑跡，此時(shí)再用刻蝕試劑與敏感的殘缺端基反應(yīng)，使徑跡繼續(xù)擴(kuò)大，最終形成孔徑大小均勻的柱狀孔，既而形成直通孔微濾膜。核徑跡蝕刻法制備微濾膜的過程。
影響微濾膜孔結(jié)構(gòu)的主要因素有:薄膜的厚度、高能荷電粒子的照射時(shí)間、刻蝕液的濃度、刻蝕的時(shí)間、溫度等。薄膜的厚度一般為5-15um,所制得的微濾膜孔徑一般在0.02-10um之間，孔隙率一般為10%左右，由于膜較薄，因此流體透過速度與相轉(zhuǎn)化法相當(dāng)。這種膜一般具有親水、耐熱、耐酸、透光性好等特點(diǎn)。
示例 聚碳酸酯微孔濾膜
膜材料 酸碳酸脂(PC)薄膜。
腐蝕劑 氫氧化納。
制膜工藝 重離子轟擊PC薄膜，聚合物薄膜分子鍵斷裂，形成小分子和自由原子團(tuán)，這些受激產(chǎn)物在紫外線/過氧化劑的作用下，繼續(xù)損傷并形成酸性化合物;
酸性化合物在堿溶液作用下，生成可溶性鹽，經(jīng)沖洗形成微孔。
